什么是薄膜蒸發器(Thin Film Evaporator)？

薄膜蒸發器是用來制造薄膜的機器。通過蒸發或升華各種元素，薄膜蒸發器可以在基材上沉積極薄的原子或分子層。該機器包括一個真空室，一種加熱元件和一種在薄膜沉積到基片上時保持和移動基板的裝置。用鉆孔機有兩種主要...

薄膜蒸發器是用來制造薄膜的機器。通過蒸發或升華各種元素，薄膜蒸發器可以在基材上沉積極薄的原子或分子層。該機器包括一個真空室，一種加熱元件和一種在薄膜沉積到基片上時保持和移動基板的裝置。用鉆孔機有兩種主要的蒸發方式可以用來制造薄膜。這兩種方法都是電阻蒸發和電子束蒸發，目標材料在薄膜蒸發器中加熱，直到蒸發或升華。作為氣體，目標材料通過真空室，直到它落在基底上并形成薄膜。這兩種技術都要求目標材料和氣體一樣穩定。在電阻蒸發中，電流是通過一個目標材料，當它通電時，目標材料變熱。有足夠的熱量，目標材料蒸發或升華。金和鋁是常見的目標材料，可以以金屬絲的形式蒸發，稱為細絲。以細絲形式存在的目標材料很難裝載到蒸發器上，并且只能少量工作。薄膜蒸發器也可以使用目標材料的薄片，它們通常更容易操作，蒸發時會產生更多的物質。有些目標材料不適合電阻蒸發，因為它們會在蒸發過程中釋放出大量的固體物質。如果這些固體物質與在基底上形成的薄膜相碰撞，它們會破壞它。蒸發這些材料需要使用一種封閉的熱源，它允許氣體形式的物質通過小孔逸出，同時將部分固體物質困在加熱室內電子束蒸發通過引導高能電子束照射目標材料來加熱它。在這種薄膜蒸發器中，靶材在被電子轟擊和加熱的同時被保存在冷卻的爐缸中。這一過程對于蒸發溫度很高的靶材很有用，因為聚焦的能量束可以加熱靶材而不加熱整個儀器。存放靶材的容器不會暴露在極熱，因此在過程中不會熔化或蒸發。這種薄膜蒸發需要特定的設備，而且成本很高。

發表于 2020-09-17 16:23
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分類：文化藝術

什么是薄膜蒸發器(Thin Film Evaporator)？

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