薄膜涂層由介電、金屬和氧化物化合物制成,這些化合物通常用于半導體工業、軍事和光學設備應用中。制造過程通常涉及物理氣相沉積,如濺射沉積,或化學氣相沉積,其中化學反應和高能等離子體是用來沉積薄膜的。被歸類為薄膜的...
薄膜涂層由介電、金屬和氧化物化合物制成,這些化合物通常用于半導體工業、軍事和光學設備應用中。制造過程通常涉及物理氣相沉積,如濺射沉積,或化學氣相沉積,其中化學反應和高能等離子體是用來沉積薄膜的。被歸類為薄膜的涂層通常被認為厚度最大為1微米,或者1000納米,可以是鐵磁性的、陶瓷的,或某種程度的導電或絕緣材料。

帶有防反射薄膜涂層的黑色眼鏡。光學涂層是薄膜涂層的主要生產領域之一,并為激光濾光片和醫學激光手術提供眼睛保護等重要用途。抗反射涂層廣泛應用于照相機、望遠鏡和數字視頻光盤(DVD)播放機的透鏡中,以減少會降低此類設備性能的正常光反射光學場也是多層的,可以與不同波長的光進行不同的相互作用,并用于計算機顯示器、具有反射和抗反射特性的眼鏡和電視攝像機。反射光學涂層是鏡面狀的,通常由鋁、金或銀制成,薄膜器件技術廣泛應用于光學器件和半導體中。陶瓷薄膜被用于影印機、條形碼掃描儀以及工業和軍用高功率激光器中,在醫學應用中,由于其惰性,以及許多其他領域自2011年起,由陶瓷薄膜涂層組成的鋰離子電池基板在電子工業中使用,在美國橡樹嶺國家實驗室經過十多年的研究,已經得到了完善。集成電路的陶瓷基座是植入電池的平臺,可以在-4°到284°F(-20°到140°C)的廣泛溫度范圍內工作,并且可以是任何形狀或尺寸的,這就形成了電路比傳統設計更廣泛的應用。如有必要,其能在高達536華氏度(280攝氏度)的溫度下工作,這使得它們可以用于傳感器、智能卡和植入式醫療設備,如除顫器和神經刺激器。染料敏化太陽能電池(DSSC)還依賴于二氧化鈦,TiO2,雖然它們的厚度通常為5到20微米。這項技術包括陶瓷、半導體和光學材料的薄膜涂層的組合,并且設計為能夠在陽光下持續20年的暴露。這些太陽能電池的電子器件的固態設計提供了制造它們的希望比標準硅基太陽能電池更具成本效益和生產簡單。