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    什么是離子鍍(Ion Plating)?

    離子鍍是一種將一種物質(通常是金屬或化合物)的涂層沉積在目標零件或表面上的技術。涂層材料通過電弧蒸發和電離,然后高速向目標推進,電離粒子的電荷使其與目標表面結合目標。這項技術有時被稱為物理氣相沉積。通常在真空...
    離子鍍是一種將一種物質(通常是金屬或化合物)的涂層沉積在目標零件或表面上的技術。涂層材料通過電弧蒸發和電離,然后高速向目標推進,電離粒子的電荷使其與目標表面結合目標。這項技術有時被稱為物理氣相沉積。通常在真空室或惰性氣體環境中進行。使用鉆孔材料進行離子鍍的人首先要進行處理,去除任何異物并清潔所有表面。這項工作是在與電鍍是要進行的,被稱為濺射。濺射的過程與隨后的電鍍過程相似,但靶材被另一種材料的離子轟擊,例如氬氣,它會剝去所有雜質的表面,而不是粘在靶材上。表面必須完全清潔,以確保涂層材料的正確粘合。一旦靶材經過處理并準備好進行涂層,離子鍍過程開始。涂層材料通過電弧電流蒸發,電弧電流利用極低的電壓和高電流流。這不僅使涂層材料蒸發,還使因相同電荷而相互排斥的單個原子離子化。然后將蒸汽推向目標,它被賦予一個微弱的反向電荷來吸引電離的涂層材料。這使得涂層的汽化離子與制備的表面結合。離子鍍的基本技術可以通過多種方式進行改進。通過將某些氣體和其他汽化離子引入封閉環境中,可以將一種物質的汽化離子與其他離子結合,形成一種新的化合物,然后與目標結合將不同類型的材料結合在一起可以得到各種各樣的涂層。離子鍍技術應用的涂層通常非常薄而且非常均勻。這些涂層的厚度可以達到微米級。均勻地應用這種薄涂層的能力使得這種技術對不規則形狀的零件以及使用其他技術無法應用的涂層,如電鍍。
    • 發表于 2020-09-16 16:42
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    • 分類:文化藝術

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