濺射機通常是一個小的,密封的腔室,高能粒子如電子轟擊源材料,將原子從表面噴射出去。這些原子隨后從室壁反彈,在室室內覆蓋一個樣品。掃描電子顯微鏡(SEM),它依靠樣品的導電性來觀察納米尺度的特征,通常依靠這種機器先在生物...
濺射機通常是一個小的,密封的腔室,高能粒子如電子轟擊源材料,將原子從表面噴射出去。這些原子隨后從室壁反彈,在室室內覆蓋一個樣品。掃描電子顯微鏡(SEM),它依靠樣品的導電性來觀察納米尺度的特征,通常依靠這種機器先在生物樣品上涂上一層鉑薄膜進行觀察。濺射機技術的其他用途包括在半導體工業的沉積過程中鍍膜和蝕刻表面遠離材料層以確定其化學成分。

金餐具可以進行濺射沉積雖然濺射機制備樣品的機器可能非常復雜和昂貴,但濺射設備不一定非得如此。這些機器可以是根據既定物理原理操作的相對簡單的設備,而且往往缺少活動部件或需要復雜的維護,它們的尺寸從小型桌面設備到大型地板模型不等。

昂貴的珠寶可能會受到撞擊物理氣相沉積是濺射機設計中常用的一種方法沉積材料在低壓(通常是部分真空)下在濺射室中轉化為蒸汽,蒸汽在濺射室中冷凝到基底材料上形成薄膜。這種薄膜只有幾層原子或分子厚,薄膜厚度的其他因素包括每種材料的質量和涂層粒子的能級,這些粒子的電荷可以從幾十電子伏到幾千伏不等被稱為離子的帶電原子也被濺射機用在一種稱為電位濺射的過程中。濺射材料被賦予離子電荷,當它與目標表面發生碰撞時,它就會失去離子電荷。與此過程相關的是反應離子刻蝕(RIE),它利用天然離子材料進行二次離子質譜(SIMS)研究,分析材料中微量元素的存在,靜態SIMS處理將以很好的速度濺射,只需從靶表面去除十分之一的原子單層,因此,它是另一種有用的納米技術工具研究掃描電鏡的濺射機。其他用途包括鍍膜平板玻璃、丙烯酸樹脂和其他塑料,以及除硅以外的陶瓷和晶體。它們也可以用作清潔和拋光精密部件的非常精細的方法。昂貴的珠寶和餐具(如金餐具)也可以進行濺射沉積,專業的金和鋁膜也可以。