什么是離子植入物(Ion Implant)？
離子注入在許多不同的行業都有應用，尤其是在半導體制造方面。離子注入是一種特殊元素的離子，為了改變材料的電學或表面性質而放置在其周圍的材料中。一些可用于離子注入的常見元素有磷、砷、硼，還有氮。 有許多安全協議...
離子注入在許多不同的行業都有應用，尤其是在半導體制造方面。離子注入是一種特殊元素的離子，為了改變材料的電學或表面性質而放置在其周圍的材料中。一些可用于離子注入的常見元素有磷、砷、硼，還有氮。
有許多安全協議控制硅晶圓的摻雜過程。離子注入的科學從20世紀50年代就已為人所知，但直到20世紀70年代才得到廣泛應用。一種叫做質量分離器的機器用于將離子注入目標材料中，它在科學上被稱為"基質"。在典型的裝置中，離子在源點產生，然后加速流向分離磁鐵，它有效地將離子集中并指向目的地。離子由原子或分子組成，電子數比通常高或低，使它們更具化學活性。當這些離子到達基底時，它們在停止之前與原子和分子發生碰撞。這種碰撞可能涉及原子核或電子。這些碰撞造成的損傷會改變基底的電學性質。在許多情況下，離子植入物會影響基板的導電能力。一種叫做摻雜的技術是使用離子植入物的主要目的。這通常在集成電路的生產中進行，實際上，像計算機中的那些現代電路是不可能沒有離子注入的。摻雜基本上是離子注入的另一個名字，專門用于電路制造。摻雜要求離子從非常純凈的氣體中產生，這有時是危險的正因為如此，有許多安全協議控制著硅晶圓的摻雜過程。氣體的粒子在自動質量分離器中被加速并導向硅襯底。自動化減少了安全問題，并且每分鐘可以用這種方式摻雜幾個電路。離子注入也可用于制造鋼制工具。在這種情況下，離子注入的目的是改變鋼的表面特性，使其更耐裂紋。這種變化是由于注入而使表面輕微壓縮引起的。離子注入所帶來的化學變化也可以防止腐蝕。這一技術也可以使用設計假肢裝置，如人工關節，賦予它們相似的性能。
有許多安全協議控制硅晶圓的摻雜過程。離子注入的科學從20世紀50年代就已為人所知，但直到20世紀70年代才得到廣泛應用。一種叫做質量分離器的機器用于將離子注入目標材料中，它在科學上被稱為"基質"。在典型的裝置中，離子在源點產生，然后加速流向分離磁鐵，它有效地將離子集中并指向目的地。離子由原子或分子組成，電子數比通常高或低，使它們更具化學活性。當這些離子到達基底時，它們在停止之前與原子和分子發生碰撞。這種碰撞可能涉及原子核或電子。這些碰撞造成的損傷會改變基底的電學性質。在許多情況下，離子植入物會影響基板的導電能力。一種叫做摻雜的技術是使用離子植入物的主要目的。這通常在集成電路的生產中進行，實際上，像計算機中的那些現代電路是不可能沒有離子注入的。摻雜基本上是離子注入的另一個名字，專門用于電路制造。摻雜要求離子從非常純凈的氣體中產生，這有時是危險的正因為如此，有許多安全協議控制著硅晶圓的摻雜過程。氣體的粒子在自動質量分離器中被加速并導向硅襯底。自動化減少了安全問題，并且每分鐘可以用這種方式摻雜幾個電路。離子注入也可用于制造鋼制工具。在這種情況下，離子注入的目的是改變鋼的表面特性，使其更耐裂紋。這種變化是由于注入而使表面輕微壓縮引起的。離子注入所帶來的化學變化也可以防止腐蝕。這一技術也可以使用設計假肢裝置，如人工關節，賦予它們相似的性能。
- 發表于 2020-09-05 09:28
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