俄歇電子能譜(AES)通常用于測定表面一層薄薄的、微觀的化學成分。被稱為電子的粒子通常瞄準材料,觸發俄歇效應,在這種效應中,一個原子內層的電子被移除,一個更高級的粒子取代,在超高真空中進行測試,通常用電子槍、分析儀、探...
俄歇電子能譜(AES)通常用于測定表面一層薄薄的、微觀的化學成分。被稱為電子的粒子通常瞄準材料,觸發俄歇效應,在這種效應中,一個原子內層的電子被移除,一個更高級的粒子取代,在超高真空中進行測試,通常用電子槍、分析儀、探測器和數據記錄器來完成,通常以圖形方式分析信息;峰的性質通常有助于識別樣品中存在的化合物。
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通常使用帶燒杯的科學家光束,盡管有時會釋放x射線。被測材料的類型決定了使用哪種材料,例如氧化物,如果暴露在高水平的電子下,會降解。物質可以被識別,因為俄歇電子的能量通常是元素特有的。在俄歇電子能譜學中,逃逸的粒子通常沒有其他粒子那么有能量。它們通常需要非常靠近表面才能逃逸,在俄歇電子能譜中使用的電子槍通常由一個粒子源和一個聚焦光束的透鏡組成,透鏡可以是靜電的,也可以是電磁的;使用哪一種取決于所需的分辨率。作為俄歇電子能譜技術一部分的電子能量分析儀可以根據發射粒子的能級對其進行分類。分析儀可以設計成柱面鏡或兩個半球形同心殼。通常使用單通道或多通道探測器用于俄歇電子能譜學,然后通過圖形上的一組峰對數據進行分析掃描通常需要幾分鐘才能完成,而高分辨率的測量則可能需要25分鐘。測量掃描通常可以識別出存在的元素,而另一次掃描則可以確定某些原子的濃度。如果束流掃描穿過樣品,則可以生成被測表面的地圖。俄歇電子光譜科學通常應用于許多物理和化學應用中。除了識別表面元素外,它還可用于檢測氧化和腐蝕。可使用AES分析溫度響應和相關疲勞。該技術還可用于檢查集成電路中的污染物,但是這個過程的一個局限性是被測材料的表面經常會受到損傷。