什么是光掩模(Photomask)？
光掩模是一種用于光刻工藝的不透明板。不透明表面上的開口或孔被布置成允許光線通過，從而將圖案從光掩模轉移到另一種材料上，如紙張上。光掩模通常用于制造半導體，這種技術將集成電路的圖像和排列精確地傳送到電路板上，這...
光掩模是一種用于光刻工藝的不透明板。不透明表面上的開口或孔被布置成允許光線通過，從而將圖案從光掩模轉移到另一種材料上，如紙張上。光掩模通常用于制造半導體，這種技術將集成電路的圖像和排列精確地傳送到電路板上，這種過程被稱為光刻技術。
硅片表面涂有光刻膠，光掩模是一種光敏材料。光掩模在我們社會先進技術的發展中起著極其重要的作用。現代技術要求更小的組件，這就允許像非常小的手持計算機和其他小規模技術這樣的設備存在。如果沒有photmask或光刻技術，則這些設備中的電路和芯片無法準確傳輸。光掩模的設計由芯片制造商決定，芯片制造商通過多種語言和媒介對其具體細節進行了描述。由于每個制造商的設計規范各不相同，生產光掩模的公司必須對其設計有透徹的了解。制作掩模最重要的部分之一就是掩模本身。由于其精確性和低故障率，在大多數情況下，掩模是由高質量的鉻制成的。掩模在半導體生產中起著至關重要的作用，這需要光刻程序。現代光刻工具配備了高光圈透鏡，用來通過光掩模傳輸光。從這些設備投射的光穿過光掩模內的圖案，并將其投射到硅片上。晶圓表面涂有光刻膠，是一種感光材料然后用負的光刻膠去除材料的掩模部分；為了逆轉這個過程，使用正的光刻膠。芯片的每一層都需要一個獨特的光掩模。大多數半導體至少有30層，因此每個半導體至少需要30個獨特的光掩模。然而，光掩模，不僅僅是一種在芯片上追蹤圖案的方法這是因為電路的排列非常精確，它們的圖案必須盡可能精確地傳送。光刻技術允許非常精確的設計傳輸。光掩模有助于計算機芯片的小型化。這是因為更小的芯片需要高度精確的總體布局圖像，如果沒有光刻工藝，這幾乎是不可能的，沒有光掩模，小型手持式計算機幾乎是不可能的，因為它們的小電路和芯片需要精確的排列。
硅片表面涂有光刻膠，光掩模是一種光敏材料。光掩模在我們社會先進技術的發展中起著極其重要的作用。現代技術要求更小的組件，這就允許像非常小的手持計算機和其他小規模技術這樣的設備存在。如果沒有photmask或光刻技術，則這些設備中的電路和芯片無法準確傳輸。光掩模的設計由芯片制造商決定，芯片制造商通過多種語言和媒介對其具體細節進行了描述。由于每個制造商的設計規范各不相同，生產光掩模的公司必須對其設計有透徹的了解。制作掩模最重要的部分之一就是掩模本身。由于其精確性和低故障率，在大多數情況下，掩模是由高質量的鉻制成的。掩模在半導體生產中起著至關重要的作用，這需要光刻程序。現代光刻工具配備了高光圈透鏡，用來通過光掩模傳輸光。從這些設備投射的光穿過光掩模內的圖案，并將其投射到硅片上。晶圓表面涂有光刻膠，是一種感光材料然后用負的光刻膠去除材料的掩模部分；為了逆轉這個過程，使用正的光刻膠。芯片的每一層都需要一個獨特的光掩模。大多數半導體至少有30層，因此每個半導體至少需要30個獨特的光掩模。然而，光掩模，不僅僅是一種在芯片上追蹤圖案的方法這是因為電路的排列非常精確，它們的圖案必須盡可能精確地傳送。光刻技術允許非常精確的設計傳輸。光掩模有助于計算機芯片的小型化。這是因為更小的芯片需要高度精確的總體布局圖像，如果沒有光刻工藝，這幾乎是不可能的，沒有光掩模，小型手持式計算機幾乎是不可能的，因為它們的小電路和芯片需要精確的排列。
- 發表于 2020-09-05 02:51
- 閱讀 ( 2884 )
- 分類：文化藝術
admin
0 篇文章
作家榜 ?
-
xiaonan123
189 文章
-
湯依妹兒
97 文章
-
luogf229
46 文章
-
jy02406749
45 文章
-
小凡
34 文章
-
Daisy萌
32 文章
-
我的QQ3117863681
24 文章
-
華志健
23 文章