納米制造通常用于制造計算機芯片。傳統的光刻技術是計算機行業的支柱,可用于創建尺寸小于22nm的特征,雖然這是非常昂貴的,而且目前還不被認為是經濟有效的。更典型的是,圖案的特征尺寸約為193納米,作為一個下限。由于預期光刻技術會遇到物理限制,計算機公司已經在下一代光刻技術的研究上投入了數十億美元,其中包括x射線光刻(特征尺寸為15nm)、雙圖案(使用較低分辨率的方法,但在同一表面上刻印兩次)、電子束直寫光刻(EBDW)、極紫外光刻,納米壓印光刻、掃描探針光刻(可以操縱單個原子)和原子力顯微鏡納米光刻。更先進的納米制造方法是分子自組裝,這已經在實驗室中演示了數百次,或者是位置機械合成,這是最早的研究階段兩者都試圖將納米制造帶入3D領域,這將真正釋放出它的技術力量。快速通過3D納米制造技術意味著制造商理論上可以以納米級的精度制造出一系列化學上可能的結構。這將導致發動機的功率比現在高出一個數量級,材料的強度重量比提高100倍,電子產品嵌入到任何事物中,甚至更多。不過,目前,納米制造主要用于制造更好的計算機芯片。
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